PVD Hartstoffschichten werden in physikalischen Beschichtungsverfahren hergestellt (PVD – Physical Vapor Deposition, übersetzt: Abscheidung in der physikalischen Gasphase). Hierbei werden in einer Vakuumkammer metallische Ausgangsstoffe thermisch durch Zerstäuben oder Lichtbogen verdampft und schlagen sich auf die Substrate nieder.
Durch Hinzugabe von Reaktivgasen wandeln sich die Metalldämpfe zu Nitriden, Carbonitriden oder Carbiden von höchster Härte. PVD Verfahren mit einem hohen Ionisierungsgrad erlauben es, Beschichtungen wie TiN (Titannitrid), TiCN (Titancarbonitrid, TiAlN (Titanaluminiumnitrid) und CrN (Chromnitrid) in einem Temperaturbereich von ca. 200°C bis 450°C abzuscheiden.
